Sekundärionen-Massenspektrometrie (ToF-SIMS)

Diese Technik ermöglicht die Analyse der chemischen Zusammensetzung von sehr dünnen Schichten/Filmen und festen Oberflächen von sehr kleinen Proben. Bei der Sekundärionen-Massenspektrometrie wird die Probenoberfläche mit Galliumionen beschossen. Wenn die Ionen die Oberfläche treffen werden Ionen der obersten Atomlager der Probe abgespalten und durch Analyse dieser Ionen und Moleküle kann die Zusammensetzung sehr exakt bestimmt werden.
Die Technik kann mit abtragendem Sputtring kombiniert werden wo wechselweise eine Atomschicht analysiert und dann abgetragen wird. Auf diese Weise erhät man ein Tiefenprofil der chemischen Zusammensetzung von der Oberfläche in die Probe.

  • Instrument: TRIFT II
  • Hersteller: PHI
  • Misst: Flugzeit von Sekundärionen von der Probe zum Detektor
  • Ergebnis: Chemische Zusammensetzung einer Oberfläche, Tiefenprofil der chemischen Zusammensetzung